在好多东谈主的念念象中，光刻机之于中国，就像畴前的“两弹一星”之于新中国：只有国度下决心，集会一切资源，举国体制一发动，十年磨一剑，终会冲破。于是问题来了——既然畴前那么难皆能搞成，今天为什么不照样再来一次？

这个问题听上去阵容很足，但如若发扬拆解，就会发现它自身设立在一个并不严谨的类比之上。

“两弹一星”是什么性质的工程？它骨子上是计谋安全工程，是国度糊口级别的科技冲破。成见明晰——原枪弹、氢弹、导弹、东谈主造卫星。旅途相对封闭——中枢旨趣也曾在国外上被考据，中国要作念的是在材料、工艺、工程组织上完成自我闭环。难度弘远，但问题鸿沟明晰。

而光刻机，尤其是EUV极紫外光刻机，骨子上却是一个内行工业体系配合的产物。它不是一个“科学难题”，而是一整套极点复杂的工业生态。

今天开头进的光刻设备由荷兰的ASML公司出产。但ASML并不是一个“单打独斗”的公司。它的中枢光源来自好意思国企业，超精密反射镜由德国光学巨头提供，真空系统、戒指软件、材料处理设备遍布内行数百家供应商。每一个零部件皆站在几十年的期间蕴蓄之上。

换句话说，光刻机不是“一个国度处理一个公式”，而是“一个国度要重建一条内行供应链”。

这和畴前充足不同。

畴前咱们搞原枪弹，不需要内行几十家企业配合；今天要造先进光刻机，却必须在光学、材料、超精密加工、戒指算法、化学工程、真空期间等多个学科同期站到寰宇最前沿。任何一个短板，皆会导致整机无法领路运转。

再看时候维度。

欧洲、日本在精密制造规模蕴蓄了半个多世纪的产业基础。德国的光学企业早在二战前就已寰宇率先。日本在高精度机床规模几十年如一日地深耕。好意思国在光源、激光戒指规模领有永远军工期间千里淀。

这些蕴蓄不是靠“集会攻关三五年”不错复制的。它需要产业文化、东谈主才体系、高卑劣协同，以及执续握住的高端阛阓需求来搭救。

再说执行环境。

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畴前搞“两弹一星”，虽然条款贫苦，但期间闭塞的逻辑是“不给你现成居品”，而不是“阻断你扫数干系供应链”。今天靠近光刻机问题，中国碰到的是更复杂的出口料理。先进设备不成卖给你，中枢零件不成卖给你，致使连高端EDA软件皆受到收尾。

在这种环境下，“集会资源”天然要紧，但更关键的是要重构体系，而不是作死马医。

事实上，中国并不是莫得集会力量。国度大基金也曾参加无数资金支执半导体产业链国产化，从设备到材料再到芯片缱绻，多个步调皆在同步股东。中芯国外皮锻真金不怕火制程上握住冲破，国产刻蚀机、薄膜千里积设备也曾渐渐替代入口。好多东谈主没把稳到的是，在28纳米、14纳米节点，中国的自主化率正在提高。

计谋上，中国并莫得放置先进光刻期间的研发，但战术上接管的是多旅途股东。

一方面奋勉研发更先进设备；另一方面通过多重曝光、优化制程等模式，在莫得EUV的情况下挤出更高性能。与此同期，加强材料、设备、软件的国产化比例，让整条产业链渐渐脱离依赖。

这是一种更复杂、更感性的工业计谋。

如若真的像畴前同样“集会一切资源只攻一个点”，可能会带来什么？第一，风险极高。光刻机研发周期可能长达十年以上，参加弘远且存在期间不细则性。第二，半导体产业是系统工程，芯片缱绻、封装、设备、材料皆要同步提高，不然单个冲破无法造成生意闭环。

国度发展不成赌博。

历史也告诉咱们，简直的工业强国不是靠一次“豪赌式冲破”完成的，而是靠永远、系统、渐进式蕴蓄。德国莫得通过一次指引式攻坚成为制造强国，日本也不是靠一次集会资源崛起。它们靠的是几十年的工业打磨。

光刻机的问题，九九归原不是“有莫得决心”，而是“有莫得系统才调”。

决心从来不缺，简直稀缺的是产业泥土。

当一个国度省略领路输出高端材料、领有内行率先的机床企业、培养大宗跨学科工程师，并造成自洽的阛阓轮回，那么光刻机天然会水到渠成。

期间从来不是喊出来的，是熬出来的。

今天的中国半导体产业，正在走的是一条笨重但执行的谈路：补基础、强链条、提自主率、稳步进取。这条路不如“两弹一星”那样心思彭湃，但它更妥当当代工业逻辑。

简直的工业升级，是马拉松，而不是百米冲刺。

如若说“两弹一星”是一次糊口级别的进步，那么光刻机攻坚更像是一场耐力赛。它锤真金不怕火的不是一时的资源集会，而是十年、二十年的执续参加和体系开辟。

是以，与其问“为什么不集会一切资源”，不如问：咱们是否正在设立一个省略执续改动的工业生态？

谜底，其实正在冉冉袒露。